本標準規定了利用高分辨X射線衍射儀測試Ⅲ族氮化物外延片結晶質量的方法原理、儀器、測試環境、樣品、測試、測試結果的分析、精密度以及測試報告。 ?
本標準適用于在氧化物襯底（Al2O3、ZnO等）或半導體襯底（GaN、Si、GaAs、SiC等）上外延生長的氮化物(Ga、In、Al)N單層或多層異質外延片結晶質量的測試。其他異質外延片結晶質量的測試也可參考本標準。