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硅片局部平整度非接觸式標準測試方法

標 準 號： GB/T 19922-2005
替代情況：
發布單位： 中華人民共和國國家質量監督檢驗檢疫總局 中國家標準化管理委員會
起草單位： 洛陽單晶硅有限責任公司
發布日期： 2005-09-19
實施日期： 2006-04-01
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更新日期： 2025年10月09日
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內容摘要

本標準規定了用電容位移傳感法測定硅片表面局部平整度的方法。本標準適用于無接觸、非破壞性地測量干燥、潔凈的半導體硅片表面的局部平整度。適用于直徑100mm及以上、厚度250μm及以上腐蝕、拋光及外延硅片。

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