本文件適用于硅、絕緣襯底上的硅（SOI）、鍺、碳化硅、藍(lán)寶石、砷化鎵、磷化銦、銻化鎵等單晶拋光片或外延片表面金屬沾污的測定，尤其適用于晶片清洗后自然氧化層或經(jīng)化學(xué)方法生長的氧化層中沾污元素面密度的測定，測定范圍：109 atoms/cm2～1 015 atoms/cm2。
本文件規(guī)定的方法能夠檢測周期表中原子序數(shù)16（S）～92（U）的元素，尤其適用于鉀、鈣、鈦、釩、鉻、錳、鐵、鈷、鎳、銅、鋅、砷、鉬、鈀、銀、錫、鉭、鎢、鉑、金、汞和鉛等金屬元素。
