本部分規(guī)定了微電子技術(shù)用貴金屬漿料中固體含量的測試方法。
本部分適用于各種燒結(jié)型和固化型微電子技術(shù)用貴金屬漿料固體含量的測定。 本部分代替ＧＢ／Ｔ１７４７３．１—１９９８《厚膜微電子技術(shù)用貴金屬漿料測試方法　固體含量測定》。
本部分與ＧＢ／Ｔ１７４７３．１—１９９８相比，主要有如下變動：
———將原標準名稱修改為微電子技術(shù)用貴金屬漿料測試方法　固體含量測定；
———刪除了引用文件ＧＢ／Ｔ２４２１—１９８９；
———本部分增加了聚合物低溫固化型漿料的固體含量測定內(nèi)容；
———對于聚合物低溫固化漿料，根據(jù)漿料使用溫度的不同來確定檢測固體含量的溫度；
———漿料平行取樣由兩份增加為三份；
———刪除了中溫燒成漿料的內(nèi)容，將高溫燒成漿料改為燒結(jié)型漿料；
———試料相互之間測試值之差不大于平均值的１％測定結(jié)果有效。