本文件規定了利用原子力顯微術測量層狀二硫化鉬納米片厚度的測量方法。
本文件適用于轉移或生長在固體襯底表面的層狀二硫化鉬納米片厚度的測量,測量范圍從單層二硫化鉬納米片至厚度不大于100 nm,其他類似的納米片層材料厚度測量也可參照此方法進行。
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