表面化學(xué)分析深度剖析用機(jī)械輪廓儀柵網(wǎng)復(fù)型法測(cè)量濺射速率

標(biāo) 準(zhǔn) 號(hào)： GB/T 32999-2016

替代情況：

發(fā)布單位：中華人民共和國(guó)國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)

起草單位：北京師范大學(xué)分析測(cè)試中心、清華大學(xué)分析中心

發(fā)布日期： 2016-10-13

實(shí)施日期： 2017-09-01

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更新日期： 2017年07月30日

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內(nèi)容摘要

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了利用俄歇電子能譜（AES）和X射線光電子能譜（XPS）測(cè)定深度剖析離子濺射速率的方法，試樣的離子濺射面積范圍為0.4 mm?2～3.0 mm?2。本標(biāo)準(zhǔn)只適用于橫向均勻的體相材料或單層材料，其離子濺射速率由濺射深度與濺射時(shí)間確定，濺射深度通過(guò)機(jī)械探針輪廓儀測(cè)得。?本標(biāo)準(zhǔn)提供了一種將深度剖析中的離子濺射時(shí)間轉(zhuǎn)換為濺射深度的方法，并假設(shè)濺射速率恒定。本方法不是為掃描探針顯微系統(tǒng)設(shè)計(jì)的，因此不能用掃描探針顯微系統(tǒng)評(píng)價(jià)該方法。本方法不適用于濺射面積小于0.4 mm?2的情況，也不適用于濺射誘導(dǎo)的表面粗糙度與被測(cè)區(qū)域的濺射深度相比較明顯的情況。